Sử dụng khí Nito trong quá trình sản xuất chất bán dẫn

Với những đổi mới công nghệ và kỹ thuật đang tiến triển vượt bật ngày nay, có thể nói rằng vô số tiện ích hiện đại bao gồm điện thoại thông minh hay máy tính xách tay đều phụ thuộc vào chất bán dẫn để thực hiện. Với việc các nhà sản xuất chất bán dẫn phải chịu áp lực sản xuất các linh kiện nhỏ hơn và hoạt động tốt hơn, từ đó nhu cầu hoàn thiện về quá trình sản xuất đòi hỏi cần phải sử dụng khí hỗ trợ. Với tính chất trơ vốn có của mình, mà khí Nito trở thành một lựa chọn hoàn mỹ trong việc chế tạo các linh kiện bán dẫn tốt nhất.

Với tính chất trơ mà Nito có được, thường được sử dụng phục vụ cho các quá trình sản xuất chất bán dẫn:

Chức năng chủ yếu của Nito trong sản xuất chất bán dẫn chính là tẩy rửa. Bởi chỉ có Nito ở dạng khí mới có thể đi qua tất cả các kênh và mạng lưới đường ống để chuyển Oxy từ các công cụ sản xuất cũng như các tấm bán dẫn. Bề mặt tẩy rửa khí Nito phần nào sẽ giữ cho chúng không bị nhiễm bẩn ở thể khí cũng như thể lỏng(hơi nước, các hạt) có thể ảnh hưởng xấu đến quá trình chế tạo.

Quá trình sản xuất ra chất bán dẫn này, thường có sự cộng hưởng của chất nền và chất phản ứng dạng khí trong buồng phản ứng ở nhiệt độ cao. Bởi phản ứng này có thể dẫn đến sự lắng đọng dần dần các lớp màng mỏng của vật liệu cho đến khi đạt được độ dày nhất định.

Các hợp chất chứa Nito như amoniax và nito oxit thường góp phần trong quá trình này với mục đích có thể tạo ra một chất bản dẫn cao.

Hầu hết các chất bán dẫn được rèn bên trong các buồng xử lý chuyên biệt, nơi mà môi trường điều kiện bên trong phải được điều chỉnh cẩn thận. Trong mỗi chu kỳ sản xuất, sẽ có những khả năng tích tụ các vật liệu thừa bên trong và trên các bộ phận điện tử được sản xuất, dẫn đến tình trạng các mặt hàng sẽ gặp sự cố. Để ngăn chặn điều này xảy ra, khí Nito triflorua được trở thành nguyên liệu trong quá trình loại bỏ vật liệu dư thừa sau mỗi giai đoạn.

Ngoài việc được sử dụng trong các chu kỳ sản xuất đang hoạt động, một lượng Nito liên tục được thông qua thiết bị mài mòn không hoạt động sẽ giúp ngăn chặn sự khởi đầu của phản ứng nhiệt phân khi có sự góp mặt của khí Oxy.

Oxy là một chất khí cần thiết đối với quá trình ghép bán dẫn và thường có độ tinh khiết cực cao. Khí này được sử dụng tương tự như một chất oxy hóa trong các giai đoạn sản xuất khác nhau:

Sự kết hợp giữa chất nền và hai chất phản ứng pha khí trong môi trường điều kiện nhiệt độ tăng cao là cơ sở hình thành các vật liệu bán dẫn cơ bản. Oxy trở thành một vai trò quan trọng của hai loại khí được sử dụng trong các phản ứng lắng đọng này. Ngoài ra Argon và Helium cũng có thể được sử dụng làm đồng chất nền để tiếp tục kích hoạt quá trình lắng đọng.

Khắc phục khí đồng phản ứng

Sau giai đoạn xử lý in thạch bản, nơi các hình dạng mong muốn của các thành phần điện tử được hình thành, khí etchant có thể được sử dụng để loại bỏ vật liệu thừa và làm cho các mẫu được tạo ra vĩnh viễn. Trong khi các khí etchant phổ biến nhất được sử dụng đều có nguồn gốc từ cacbon, thì oxy cũng có thể được sử dụng để đạt được kết quả như ý.

Về mặt Oxy có độ tinh khiết cao có thể được sử dụng trong quá trình trung hòa khí thải bằng các phản ứng oxy hóa. Bằng phương pháp đơn giãn chính là có thể dẫn luồng khí Oxy thông qua thiết bị khử trùng để loại bỏ hệ thống các sản phẩm phụ phản ứng có thể làm thay đổi chất lượng của thành phẩm.

Ngoài những thông tin hữu ích chúng tôi vừa chia sẽ, Phuthinhgas còn được biết đến với vai trò là cơ sở chuyên cung cấp các loại khí và phụ kiện đi kèm. Đặc biệt hơn hết, chúng tôi còn cung cấp loại khí Nito tinh khiết với các mức độ thuần khiết cao nhằm phục vụ những nhu cầu thiết yếu của con người. Khi đến với Phuthinhgas khách hàng sẽ an tâm khi được cung cấp đầy đủ các văn kiện chứng minh về độ an toàn cũng như chất lượng, nguồn gốc và xuất xứ rõ ràng. Hơn hết khách hàng còn được trải nghiệm những loại hình dịch vụ tốt nhất mà đội ngũ nhân viên chúng tôi đã được đào tạo trước đó, với mục đích đem lại hiệu quả cho khách hàng khi sử dụng.